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在半導(dǎo)體制造、光學(xué)薄膜研發(fā)及精密涂層檢測等領(lǐng)域，薄膜厚度與光學(xué)參數(shù)的精準測量是保障產(chǎn)品質(zhì)量與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。Thetametrisis薄膜厚度測量儀（如FR-Scanner系列）憑借其高度集成的光學(xué)模塊設(shè)計，成為這一領(lǐng)域的標準設(shè)備——其光學(xué)...
白光干涉儀是以白光干涉技術(shù)為原理，能夠以優(yōu)于納米級的分辨率，非接觸測量樣品表面形貌的光學(xué)測量儀器，用于表面形貌紋理，微觀結(jié)構(gòu)分析，用于測試各類表面并自動聚焦測量工件獲取2D，3D表面粗糙度、輪廓等一百余項參數(shù)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)，半導(dǎo)體，材料，精密機械等等領(lǐng)域。工作原理：白光干涉儀是利用光學(xué)干涉原理研制開發(fā)的超精細表面輪廓測量儀器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分成兩束光，分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個表面反射的兩束光再次通過分光鏡后合成一束光，并由成像系統(tǒng)在CCD相機感光面形...
膜厚測量儀是一款高精度、高重復(fù)性的機械接觸式精密測厚儀，可選配自動進樣機，更加準確、高效的進行連續(xù)多點測量。測試原理：將預(yù)先處理好的薄型試樣的一面置于下測量面上，與下測量面平行且中心對齊的上測量面，以一定的壓力，落到薄型試樣的另一面上，同測量頭一體的傳感器自動檢測出上下測量面之間的距離，即為薄型試樣的厚度。膜厚測量儀基礎(chǔ)應(yīng)用：紙——各種紙張、紙板、復(fù)合紙板等的厚度測定；薄膜、薄片——各種塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度測定；擴展應(yīng)用：瓦楞紙板——瓦楞紙板的厚度測定；金屬片、硅片—...
納米壓痕儀是一種準確，靈活，使用方便的納米級機械測試儀器。它測量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個數(shù)量級的形變測量。該系統(tǒng)還可以測量聚合物，凝膠和生物組織的復(fù)數(shù)模量以及薄金屬膜的蠕變響應(yīng)（應(yīng)變率靈敏度）。模塊化選項可適用于各種應(yīng)用：頻率特定測試，定量刮擦和磨損測試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測試，擴展負載容量高達10N和自定義測試。納米壓痕儀主要適用于測量納米尺度的硬度與彈性模量，測量結(jié)果通過載荷及壓入深度曲線計算得出，無需應(yīng)用顯微鏡觀測壓痕面積?？杀挥糜谟袡C或無...
白光干涉儀以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進行數(shù)據(jù)處理與分析，并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)，從而實現(xiàn)器件表面形貌3D測量的光學(xué)檢測儀器。白光干涉儀可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等，提供依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT四大國內(nèi)外標準共計300余種2D、3D參數(shù)作為評價標準。目前儀器可廣...
接近式光刻機又名：曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。其工作方式是通過光的作用，將掩模版上的電路圖形投影到產(chǎn)品表面光刻膠上，然后顯影出圖形，最后經(jīng)過蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。工作原理：接近式光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片...