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重磅! 岱美獲ThetaMetrisis薄膜厚度測(cè)量設(shè)備中國(guó)代理!
2025-03-05

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司宣布,已與ThetaMetrisis達(dá)成合作協(xié)議,成為其薄膜厚度測(cè)量設(shè)備在中國(guó)大陸、香港特別行政區(qū)、馬來(lái)西亞及菲律賓市場(chǎng)的代理商。這一消息標(biāo)志著岱美將負(fù)責(zé)ThetaMetrisis旗下先進(jìn)膜厚測(cè)量解決方案在中...

  • 2022-04-26

    3D劃痕儀主要用來(lái)測(cè)定色漆和清漆或有關(guān)產(chǎn)品的單一涂層或符合涂層體系乃劃傷或耐劃透的性能。使用于GB9279-88《色漆和清漆劃痕試驗(yàn)》和ISO12137-1:1997《色漆和清漆耐劃傷性的測(cè)定》標(biāo)準(zhǔn)。3D劃痕儀的原理:測(cè)試樣品通過(guò)夾軌固定到移動(dòng)滑板上,有一條移動(dòng)橫梁固定在兩條立柱上,橫梁可以自由移動(dòng),用于承載測(cè)試工具和載荷。壓力范圍0.5-20N,通過(guò)移動(dòng)橫梁上的載荷對(duì)照刻度來(lái)設(shè)置進(jìn)行劃痕測(cè)試時(shí),測(cè)試工具放到試樣上,然后試樣向前移動(dòng),開(kāi)始劃痕測(cè)試。當(dāng)滑板及試樣回頭移動(dòng)時(shí),導(dǎo)向...

  • 2022-04-18

    紅外激光測(cè)厚儀是用來(lái)測(cè)量材料及物體厚度的儀表。在工業(yè)生產(chǎn)中常用來(lái)連續(xù)或抽樣測(cè)量產(chǎn)品的厚度。這類儀表中有利用α射線、β射線、γ射線穿透特性的放射性厚度計(jì);有利用超聲波頻率變化的超聲波厚度計(jì);有利用渦流原理的電渦流厚度計(jì);還有利用機(jī)械接觸式測(cè)量原理的測(cè)厚儀等。應(yīng)用領(lǐng)域:黃金,鉑,銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè);金屬鍍層的厚度測(cè)量,電鍍液和鍍層含量的測(cè)定;主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè);銀行,首飾銷售和檢測(cè)機(jī)構(gòu);電鍍行業(yè)。紅外激光測(cè)厚儀主要類型:1、紙張測(cè)厚儀:適用于4mm以下的...

  • 2022-04-08

    在SEMICON展會(huì)期間,為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)和納米技術(shù)應(yīng)用提供晶圓處理解決方案的*企業(yè)EVG隆重推出了用于高亮度發(fā)光二極管(HB-LED)批量生產(chǎn)的第二代全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。GenII在發(fā)布第一代EVG620HBL的一年后推出,提供一個(gè)工具平臺(tái),主要用于滿足HB-LED客戶的特定需求,以及市場(chǎng)對(duì)降低總所有權(quán)成本的不斷要求。另外,EVG620HBLGenII還優(yōu)化了晶圓廠的工具足跡——與競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品相比,每平方米潔凈室空間的晶圓產(chǎn)出量提高了55%。HBLGenII專為...

  • 2022-03-28

    橢圓偏振儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。由于并不與樣品接觸,對(duì)樣品沒(méi)有破壞且不需要真空??蓽y(cè)的材料包括:半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物、金屬、多層膜物質(zhì)??梢詰?yīng)用于半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等領(lǐng)域。橢圓偏振儀的結(jié)構(gòu):本產(chǎn)品常用的光學(xué)元件有下列幾種:1、光源:橢圓偏振儀的理想光源是強(qiáng)度穩(wěn)定,從紫外到近紅外整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)輸出近似為常數(shù),目前大多選用Xe或Hg-Xe燈是比較合理的,但是它在UV強(qiáng)度較弱,而在880~...

  • 2022-03-28

    等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。等離子去膠機(jī)基本工藝流程:1、將圓片從片盒內(nèi)取出,放置到工藝腔內(nèi),執(zhí)行所選定的工藝文件完成去膠,將圓片放到冷卻臺(tái)上(如有需要),最后將圓片送回片盒。為了獲得更高的產(chǎn)量,可以使用熱絕緣的Teflon片盒,...

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