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電鏡防振臺(tái)結(jié)構(gòu)原理
2025-03-07

在電子顯微鏡(電鏡)的微觀探索領(lǐng)域,圖像的清晰性和準(zhǔn)確性至關(guān)重要。而電鏡防振臺(tái)作為保障電鏡穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵部件,其特殊的結(jié)構(gòu)原理發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。電鏡防振臺(tái)的主要目標(biāo)是隔離外界振動(dòng)對(duì)電鏡的干擾,為電鏡創(chuàng)造一個(gè)近乎“靜止”的工作環(huán)境。其結(jié)構(gòu)...

  • 2020-10-13

    Thetametrisis膜厚儀是一種用于測(cè)量薄膜厚度的儀器,具有精密的測(cè)量功能和廣泛的應(yīng)用范圍。以下是Thetametrisis膜厚儀的特點(diǎn)及工作原理:特點(diǎn):1.高精度測(cè)量:儀器采用先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)和精密的傳感器,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)薄膜厚度的高精度測(cè)量,通常可以達(dá)到納米級(jí)別的測(cè)量精度。2.快速測(cè)量:它具有快速測(cè)量的特點(diǎn),可以在短時(shí)間內(nèi)完成對(duì)薄膜厚度的測(cè)量,提高生產(chǎn)效率和檢測(cè)速度。3.非破壞性測(cè)量:儀器采用非接觸式測(cè)量方式,對(duì)被測(cè)樣品幾乎沒有破壞性,適用于對(duì)薄膜進(jìn)行精密測(cè)量和表征。4....

  • 2020-10-09

    EVG510-晶圓鍵合機(jī)是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),可以處理從碎片到200mm的基板尺寸。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,例如陽(yáng)極,玻璃粉,焊料,共晶,瞬態(tài)液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設(shè)計(jì)允許對(duì)不同的晶圓尺寸和工藝進(jìn)行快速便捷的重新工具化,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到5分鐘。EVG510-晶圓鍵合機(jī)特征:1.壓力和溫度均勻性。2.兼容EVG機(jī)械和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)器。3.靈活的設(shè)計(jì)和配置,用于研究和試生產(chǎn)。4.將單芯片形成晶圓。5.各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接鍵合)。6.可選的渦輪...

  • 2020-09-29

    Thetametrisis膜厚儀是一款快速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺(tái)計(jì)算機(jī)控制的XY工作臺(tái),使其快速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性圖。Thetametrisis膜厚儀利用FR-Mic,通過紫外/可見/近紅外可輕易對(duì)局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量。Thetametrisis膜厚儀使用優(yōu)勢(shì):1、實(shí)時(shí)光譜測(cè)量。2、薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性...

  • 2020-09-27

    單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級(jí)各個(gè)階層用戶,非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)特征:1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/8英寸。2、臺(tái)式或獨(dú)立式帶防振花崗巖臺(tái)面。3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。4、分步...

  • 2020-09-25

    Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。Subnano3D干涉輪廓儀產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):1、美國(guó)硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統(tǒng)軟件。2、關(guān)鍵硬件采用美國(guó)、德國(guó)、日本等。3、PI納米移...

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