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在電子顯微鏡（電鏡）的微觀探索領(lǐng)域，圖像的清晰性和準(zhǔn)確性至關(guān)重要。而電鏡防振臺(tái)作為保障電鏡穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵部件，其特殊的結(jié)構(gòu)原理發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。電鏡防振臺(tái)的主要目標(biāo)是隔離外界振動(dòng)對(duì)電鏡的干擾，為電鏡創(chuàng)造一個(gè)近乎“靜止”的工作環(huán)境。其結(jié)構(gòu)...
光學(xué)膜厚儀是一種非接觸式測(cè)量?jī)x器，一般會(huì)運(yùn)用在生產(chǎn)廠商大量生產(chǎn)產(chǎn)品的過(guò)程，由于誤差經(jīng)常會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品全部報(bào)廢，這時(shí)候就需要運(yùn)用光學(xué)膜厚儀來(lái)介入到生產(chǎn)環(huán)境，避免這種情況的發(fā)生。光學(xué)膜厚儀的光學(xué)機(jī)械組件：1、光源：寬光譜光源；2、探測(cè)器：高靈敏度低噪音陣列式光譜探測(cè)器；3、控制箱：含電路板、控制單元、電源、光源；4、輸出設(shè)備：軟件界面支持輸出、輸入光譜數(shù)據(jù)庫(kù)。系統(tǒng)特點(diǎn)：1、嵌入式在線診斷方式；2、免費(fèi)離線分析軟件；3、精細(xì)的歷史數(shù)據(jù)功能，幫助用戶有效地存儲(chǔ)，重現(xiàn)與繪制測(cè)試結(jié)果；4、主...
隨著光學(xué)在各個(gè)領(lǐng)域當(dāng)中的應(yīng)用，使得它也能為測(cè)厚行業(yè)里帶來(lái)貢獻(xiàn)。其中就有大眾所知的光學(xué)膜厚儀。它利用光學(xué)的特點(diǎn)，能夠直接檢測(cè)出物件涂層、或者是其它物件的厚度。該儀器所使用的原理，便是光的折射與反射。這種儀器在使用時(shí)，擺放在物件的上方，從儀器當(dāng)中發(fā)射了垂直向下的可視光線。其中一部分光會(huì)在膜的表面形成一個(gè)反射，另一部分則會(huì)透過(guò)儀器的薄膜，在薄膜與物件之間的界面開(kāi)成反射，這個(gè)時(shí)候，薄膜的表面，以及薄膜的底部同時(shí)反射的光會(huì)造成干涉的現(xiàn)象。儀器便是利用了這樣的一種現(xiàn)象，從而測(cè)量出物件的厚...
作為光刻工藝中zuì重要設(shè)備之一，接觸式光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高接觸式光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。光刻意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。接觸式光刻機(jī)是集成電路芯片制造的關(guān)鍵核心設(shè)備。光刻機(jī)是微電子...
光學(xué)膜厚儀是利用薄膜干涉光學(xué)原理，對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。光學(xué)膜厚儀根據(jù)反射回來(lái)的干涉光，用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測(cè)量范圍1nm-3mm，可同時(shí)完成多層膜厚的測(cè)試。對(duì)于100nm以上的薄膜，還可以測(cè)量n和k值。應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體制造業(yè)，光刻膠、氧化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測(cè)量；生物醫(yī)學(xué)原件：聚合物/聚對(duì)二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層；微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜...
掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)是指通過(guò)開(kāi)啟燈光發(fā)出UVA波長(zhǎng)的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的機(jī)器設(shè)備。該儀器可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)。技術(shù)數(shù)據(jù)：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)以其多功能性和可靠性而著稱，在小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總體擁有成本，提供了先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen2解決方案，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時(shí)間以及高...