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納米壓印光刻系統(tǒng)制造商SwissLithoAG今天宣布一種聯(lián)合解決方案，可以生產(chǎn)最小到單納米級(jí)的3D結(jié)構(gòu)。該方案最初在由歐盟第七框架計(jì)劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項(xiàng)目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)，以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻系統(tǒng)和EVG。目標(biāo)應(yīng)用：EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo)，以開(kāi)發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件，以支持光子學(xué)，數(shù)據(jù)通信，增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)和其他...

光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法?？梢酝ㄟ^(guò)以下兩種基本方法來(lái)實(shí)現(xiàn)圖案化：直接寫(xiě)入圖案，或通過(guò)掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。設(shè)定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過(guò)計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)（CAD）定義圖案模式。多數(shù)情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過(guò)物理壓?。ú恍枰刮g劑，也叫納米壓?。﹣?lái)定義圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到一個(gè)基板，再進(jìn)行蝕刻，電鍍或剝離。1.技術(shù)領(lǐng)域根據(jù)所需的特征，有幾種不...

Microsense電容式位移傳感器提供高穩(wěn)定性和線性方案、高分辨率、高帶寬測(cè)量方案，用于測(cè)量硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，氣動(dòng)軸承轉(zhuǎn)子，X-Y樣品臺(tái)準(zhǔn)確度，光盤(pán)，汽車零部件和機(jī)床等測(cè)量。它的用途廣泛：金屬薄片厚度測(cè)量，振動(dòng)測(cè)量，工作臺(tái)垂直度和平坦度測(cè)量，精密馬達(dá)轉(zhuǎn)軸偏振測(cè)量，精密儀器工作平臺(tái)定位，設(shè)備自動(dòng)聚焦測(cè)量（微影設(shè)備、原子力顯微鏡、光罩探測(cè)、圖像確認(rèn)、LCD生產(chǎn)設(shè)備…）它的安裝難度：它是易于安裝的Microsense電容式位移傳感器。MicroSense的電容式位移傳感器使用單個(gè)傳感...

光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測(cè)試點(diǎn)。針對(duì)不同的晶圓尺寸，盒對(duì)盒系統(tǒng)可以很容易的自動(dòng)轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點(diǎn)的分布圖測(cè)量只需耗時(shí)約45秒。用激光粒度分布儀測(cè)試膠體的粒度分布時(shí)應(yīng)配合其它檢測(cè)手段驗(yàn)證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性，同時(shí)應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì)，防止自來(lái)水中的電解質(zhì)造成顆粒團(tuán)聚影響...

Microsense電容式位移傳感器具有一般非接觸式儀器所共有的非接觸式特點(diǎn)外，還具有信噪比高，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩(wěn)定性好，抗電磁干擾能力強(qiáng)和使用操作方便等優(yōu)點(diǎn)。目前，Microsense電容式位移傳感器在國(guó)內(nèi)研究所，高等院校、工廠等部門得到廣泛應(yīng)用，成為科研、教學(xué)和生產(chǎn)中一種不能缺少的測(cè)試儀器。Microsense電容式位移傳感器的分類簡(jiǎn)介：1、被動(dòng)式：被動(dòng)式位移傳感器為一種非接觸式精密位置傳感器?；谧非笞罴训木€性和穩(wěn)定性而設(shè)計(jì)，其測(cè)量帶寬高達(dá)20千...